フォトニックデバイス関連施設の概要
フォトニックデバイス関連施設は地下1階・地上1階建てで、建物内に事務室の他、クリンルームなど4つの実験室、及びそれらの実験環境を支える機械設備が設けられています。屋外には液化窒素CE(コールド・エバポレータ)設備も設置され、窒素ガスや液化窒素を供給しています。
実験室
実験室には、「クリンルーム」と「測定室」とがあります。
クリンルームには各種のプロセス用装置を配置してあり、結晶基板上へのエピ成長から、誘電体・金属薄膜の成膜、微細パターン形成、ドライエッチング加工など様々なプロセスの実験が可能です。
クリンルーム1・・・一般プロセス用
準備中
| 室面積： | 約420平方メートル (天井高2.8m) |
|---|---|
| 空気清浄度： | クラス10,000 |
| 室温： | 23±2 ℃ |
| 湿度： | 45±10% (RH) |
| 室内圧： | ＋15 Pa |
クリンルーム2・・・リソグラフィプロセス用
準備中
| 室面積： | 約76平方メートル (天井高2.8m) |
|---|---|
| 空気清浄度： | クラス100 |
| 室温： | 23±2 ℃ |
| 湿度： | 45±10% (RH) |
| 室内圧： | ＋25 Pa |
| その他： | 黄色照明 |
測定室では、光デバイスの光学特性評価、基礎的な光物性評価を行うための種々の測定機器が利用できます。
測定室1・・・PL(蛍光)、光吸収・透過など基礎光物性の測定
準備中
測定室2・・・微細構造・形状の観察・分析、パッケージングなど
準備中
共通設備
クリンルームには共通ユーティリティとして、超純水、循環冷却水、窒素ガス、液化窒素、高圧空気などが供給されており、プロセス装置の24時間運転を可能にしています。
(左)廃液処理設備／液化窒素CE設備(右)
準備中
また、廃液の回収処理設備、プロセス排ガス除害設備、ガス漏洩検知警報システム、複数のカメラによる映像監視システムなどの設備により、環境・安全対策を図っています。
お問い合わせについて
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