主な光デバイス開発用プロセス装置

  装置名 用途
1 スピンコータ ホトレジスト塗布
2 露光装置 パターン転写
3 ドラフトチャンバー 化学薬品を使用した洗浄、エッチング処理、レジスト現像、有機溶剤による洗浄等
4 ICPドライエッチング装置 GaAs,InP等化合物半導体のドライエッチング
5 P-CVD装置 SiO2膜の形成
6 RFスパッタ装置 誘電体薄膜形成
7 段差測定器 2次元表面プロファイル測定基板表面形状、薄膜厚みエッチング深さ 等
8 分光エリプソメータ 薄膜厚み、光学定数の波長分散測定
9 ICPドライエッチング装置 シリコン、酸化膜、金属等のエッチング
10 プラズマドライクリーニング装置 基板表面洗浄残渣有機物除去
11 抵抗加熱蒸着装置 金属薄膜の堆積
12 電子ビーム(EB)蒸着装置 金属薄膜形成
13 シンター炉 オーミック電極形成用熱処理(N2 雰囲気中)

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