フォトニックデバイス関連施設の概要

フォトニックデバイス関連施設は地下1階・地上1階建てで、建物内に事務室の他、クリンルームなど4つの実験室、及びそれらの実験環境を支える機械設備が設けられています。屋外には液化窒素CE(コールド・エバポレータ)設備も設置され、窒素ガスや液化窒素を供給しています。

実験室

実験室には、「クリンルーム」と「測定室」とがあります。

クリンルームには各種のプロセス用装置を配置してあり、結晶基板上へのエピ成長から、誘電体・金属薄膜の成膜、微細パターン形成、ドライエッチング加工など様々なプロセスの実験が可能です。

クリンルーム1・・・一般プロセス用

室面積: 約420平方メートル (天井高2.8m)
空気清浄度: クラス10,000
室温: 23±2 ℃
湿度: 45±10% (RH)
室内圧: +15 Pa

クリンルーム2・・・リソグラフィプロセス用

室面積: 約76平方メートル (天井高2.8m)
空気清浄度: クラス100
室温: 23±2 ℃
湿度: 45±10% (RH)
室内圧: +25 Pa
その他: 黄色照明

測定室では、光デバイスの光学特性評価、基礎的な光物性評価を行うための種々の測定機器が利用できます。

測定室1・・・PL(蛍光)、光吸収・透過など基礎光物性の測定

測定室2・・・微細構造・形状の観察・分析、パッケージングなど

共通設備

クリンルームには共通ユーティリティとして、超純水、循環冷却水、窒素ガス、液化窒素、高圧空気などが供給されており、プロセス装置の24時間運転を可能にしています。

(左)廃液処理設備/液化窒素CE設備(右)

    

また、廃液の回収処理設備、プロセス排ガス除害設備、ガス漏洩検知警報システム、複数のカメラによる映像監視システムなどの設備により、環境・安全対策を図っています。

お問い合わせについて

お問い合わせは下記先端ICTデバイスラボ事務局へお願いいたします。

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〒184-8795
東京都小金井市貫井北町4-2-1
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先端ICTデバイスラボ 事務局
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042-327-6491

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