主なミリ波デバイス開発用プロセス装置｜国立研究開発法人情報通信研究機構ネットワーク研究所先端ICTデバイスラボ

主なミリ波デバイス開発用プロセス装置

	装置名	用途
1	メタルスパッタ装置	誘電体膜の成膜
2	EB蒸着装置、小型抵抗蒸着装置	金属薄膜の真空体積・蒸着
3	P-CVD装置	SiO2膜の形成
4	電子ビーム露光装置	電子ビームによるレジスト描画・露光
5	マスクアライナー	紫外線によるレジスト露光
6	RIEエッチング装置	化合物半導体・絶縁膜のドライエッチング
7	バレル型プラズマ処理装置	基板表面洗浄、残渣有機物除去
8	ICPメタルエッチング装置	金属薄膜・化合物半導体のドライエッチング
9	赤外線ランプ加熱装置	オーミック電極形成の急速熱処理
10	表面微細形状計測装置	表面の段差、表面粗さ、微細形状を計測
11	基板加工装置	基板の切断、研磨、ビア形成等（レーザーソー、ダイシングソー、バックグラインダ、ウエハ洗浄装置）
12	走査型電子顕微鏡	微細形状、断面構造の観察
13	赤外線分光装置（FT-IR）	赤外線領域での透過率スペクトル測定
14	ラマン分光装置	散乱光のスペクトル測定
15	高周波測定装置	高周波特性の測定
16	小型高速テラヘルツ時間領域分光装置	テラヘルツ領域における材料特性の測定

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