先端ICTデバイスラボ

先端ICTデバイスラボには,埃の非常に少ない状態に維持されたクリーンルーム(プロセス室)が設置され,中には,電子線や光による極微パターンの形成,分子線やプラズマによる高純度成膜,イオン線などによる極微細加工,電極形成や光ファイバとの接続,あるいは電子顕微鏡ほかによる微細形状観測や元素分析,その他各種のプロセスや測定のための設備・装置群が配備されていて,半導体や誘電体材料を用いた,様々な光デバイス・ミリ波デバイスの試作研究開発に活用することができます.熟練技術者グループが,それら設備・装置が常に適切な状態で使用できるように維持管理し,また,標準的な使用条件を利用者に提供できる態勢を整えています.防災のための安全対策や,廃棄物,あるいは排気,排水,騒音などに係る環境保全にも最大限に配慮しています.利用者が,光デバイス・ミリ波デバイスの試作研究開発に専念することができる環境を提供します.

トピックス

2015年03月19日
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〒184-8795
東京都小金井市貫井北町4-2-1
国立研究開発法人 情報通信研究機構
先端ICTデバイスラボ 事務局
FAX番号
042-327-6491

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